Producción y tratamiento de películas de Si1-xGex mediante técnicas asistidas por láser de excímero
El creciente interés que suscita la búsqueda de nuevas técnicas para la obtención de materiales semiconductores, compatibles con la tecnología del silicio, ha llevado a desarrollar un sistema de depósito y postprocesado en alto vacío (HV) de Si-Ge mediante técnicas asistidas por láser excímero. Se h...
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| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Consejo Superior de Investigaciones Científicas
1998-04-01
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| Series: | Revista de Metalurgia |
| Subjects: | |
| Online Access: | http://revistademetalurgia.revistas.csic.es/index.php/revistademetalurgia/article/view/663 |