Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados.

Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados.

O objetivo principal deste trabalho foi desenvolver um dispositivo de filme fino com anisotropia de resistividade elétrica. A idéia foi usar um efeito quântico presente em filmes muito finos de materiais condutores ou semicondutores com morfologia anisotrópica na superfície. A morfologia foi um perf...

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Bibliographic Details
Main Author: Teixeira, Fernanda de Sá
Other Authors: Mansano, Ronaldo Domingues
Format: Others
Language:pt
Published: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP 2007
Subjects:
Atomic force microscopy
Deposição por plasma
Electrical resistivity
Litografia
Litography
Materiais nanoestruturados
Microfabricação
Microfabrication
Microscopia de força atômica
Microscopia eletrônica de varredura
Nanofabricação
Nanofabrication
Nanolithography
Nanolitografia
Nanostructured materials
New Materials
Novos materiais
Plasma (microeletrônica)
Plasma (microeletronics)
Plasma deposition
Resistividade elétrica
Scanning electron microscopy
Online Access:http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/

Internet

http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/

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