| Summary: | O trabalho realizado teve como objetivo principal o projeto, a construção e os testes de um sistema de vácuo dedicado a técnica de Espectrometria de Massa do íon Secundário (SIMS), a ser utilizado na caracterização estrutural de heteroestruturas semicondutoras. O sistema (câmaras e conexões) foi totalmente desenvolvido nas dependências do IFSC-USP, sendo acoplado a este um conjunto de elementos comerciais, tais como: visores de Ultra-Alto Vácuo (UHV), medidores, canhão de íons, válvulas, bombas (mecânica, turbo e iônica) e espectrômetro de massa. Testes realizados mostraram que o sistema de vácuo principal (o sistema todo é composto por duas câmaras de vácuo: uma principal e uma de introdução) pode atingir pressões da ordem de 10-10 Torr, necessária para a implementação de técnicas de análise de superfície. Além disto, o sistema mostrou-se versátil para a troca de amostras (uso continuo) e de fácil operação. Além de instrumentação para UHV, os resultados obtidos são promissores no sentido de proporcionar uma economia nos custos para futuras aquisições de sistemas para analise de superfícies === The principal purpose of this work was the project, construction and test of a vacuum system dedicated to Secondary Ion Mass Spectroscopy (SIMS), for the structural characterization of semiconductor heterostructures. All the system components were developed at the IFSC-USP, to which were connected commercial vacuum elements, such: Ultra-high Vacuum (UHV) visors, sensors, ion gun, vacuum pumps (mechanical, turbo and ionic) and mass spectrometer. The results showed that the main chamber (the system is composed by two chambers: main chamber and the load-look) is able to reach pressures of 10-10 Torr, important for surface analyses. Also the system showed versatility to change the samples and easy operation. The results for UHV instrumentation developed are promising, and these results can be used to decrease the cost of surface analysis systems which can be implemented in the future
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