Optimierung von p-GaP-Halbleitermaterialien zur photoelektrochemischen Wasserspaltung
In der vorliegenden Arbeit wurden Untersuchungen zur Charakterisierung und Optimierung der oberflächenphysikalischen Eigenschaften von p-dotierten Galliumphosphid-Einkristallen zur Anwendung als photoelektrochemische Zelle für die Wasserspaltung unternommen. Charakterisiert wurden die Proben unte...
Main Author: | |
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Format: | Others |
Language: | German de |
Published: |
2015
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Online Access: | https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/5009/1/Dissertation%20Fertig.pdf Fertig, Dominic <http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/view/person/Fertig=3ADominic=3A=3A.html> (2015): Optimierung von p-GaP-Halbleitermaterialien zur photoelektrochemischen Wasserspaltung.Darmstadt, Technische Universität, [Ph.D. Thesis] |
Summary: | In der vorliegenden Arbeit wurden Untersuchungen zur Charakterisierung und Optimierung der oberflächenphysikalischen
Eigenschaften von p-dotierten Galliumphosphid-Einkristallen zur Anwendung als
photoelektrochemische Zelle für die Wasserspaltung unternommen. Charakterisiert wurden die Proben
unter Ultrahochvakuumbedingungen (UHV) mittels elektronenspektroskopischer Messmethoden, wie
XPS, UPS, IPES und AES, sowie durch Beugung langsamer Elektronen (LEED). Zur Bestimmung der
Effizienz der Zelle wurden Cyclovoltammetriemessungen (CV) mit verschiedenen Elektrolyten durchgeführt.
Um die Grenzfläche im Bezug auf Bandanpassung, Transporteigenschaften und Stabilität gegenüber
dem Elektrolyten weiter zu optimieren, wurden verschiedene dünne Schichten Zinkoxid, Zinndioxid
und Galliumnitrid durch RF-Magnetron-Sputtern und reaktives Sputtern abgeschieden. Zudem wurde
durch Aufbringen von Platinpartikeln als Katalysator via physikalischer Dampfabscheidung (PVD) versucht,
die photoelektrochemische Wasserspaltungsreaktion zu beschleunigen. Hierbei ist es gelungen,
einen großen Teil der Resultate aus den oberflächenphysikalischen Messungen auf das Verhalten in der
Photoelektrochemie zu übertragen. Die gewonnenen Erkenntnisse lassen auf eine starke Abhängigkeit
von der Art der Oberflächenpräparation, der Rekonstruktion in den verschiedenen Kristallorientierungen
und den damit einhergehenden Oberflächenzuständen schließen. |
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