Plasma Nanotexturing of Silicon for Photovoltaic Applications : Tailoring Plasma-Surface Interactions for Improved Light Management
Cette thèse est dédiée à l’étude de la texturation de surface du silicium cristallin (c-Si) à l’échelle nanométrique (nanotexturation) par un procédé de gravure ionique réactive en chimie SF6/O2 et en réacteur plasma à couplage capacitif à excitation radiofréquence. Ce travail a pour objectif généri...
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| Language: | en |
| Published: |
2018
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2018SACLX087/document |