| Summary: | La mise à l'échelle de la technologie CMOS classique augmente les performances des circuits numériques grâce à la possibilité d'incorporation de composants de circuit supplémentaires dans la même zone de silicium. La technologie FDSOI 28nm de ST Microélectroniques est une stratégie d'échelle innovante qui maintient une structure de transistor planaire et donc une meilleure performance sans augmentation des coûts de fabrication de puces pour les applications basse tension. Il est important de s'assurer que l'augmentation des fonctionnalités et des performances ne se fasse pas au détriment de la fiabilité réduite, ce qui est assuré en répondant aux exigences des normes internationales ISO26262 pour les applications critiques dans les environnements automobile et industriel. Les entreprises de semi-conducteurs, pour se conformer à ces normes, doivent donc présenter des capacités d'estimation de la fiabilité au stade de la conception du circuit, qui est pour l'instant évaluer qu'après la fabrication d'un circuit numérique. Ce travail se concentre sur le vieillissement des standard cell et des circuits numériques avec le temps sous l'influence du mécanisme de dégradation du NBTI pour une large gamme de variations de processus, de tension et de température (PVT) et la compensation de vieillissement avec l'application de la tension à la face arrière (Body-Bias). L'un des principaux objectifs de cette thèse est la mise en place d'une infrastructure d'analyse de fiabilité composée d'outils logiciels et d'un modèle de vieillissement dans un cadre industriel d'estimation du taux de défaillance des circuits numériques au stade de la conception des circuits développés en technologie ST 28nm FDSOI. === Scaling of classical CMOS technology provides an increase in performance of digital circuits owing to the possibility of incorporation of additional circuit components within the same silicon area. 28nm FDSOI technology from ST Microelectronics is an innovative scaling strategy maintaining a planar transistor structure and thus provide better performance with no increase in silicon chip fabrication costs for low power applications. It is important to ensure that the increased functionality and performance is not at the expense of decreased reliability, which can be ensured by meeting the requirements of international standards like ISO26262 for critical applications in the automotive and industrial settings. Semiconductor companies, to conform to these standards, are thus required to exhibit the capabilities for reliability estimation at the design conception stage most of which, currently, is done only after a digital circuit has been taped out. This work concentrates on Aging of standard cells and digital circuits with time under the influence of NBTI degradation mechanism for a wide range of Process, Voltage and Temperature (PVT) variations and aging compensation using backbiasing. One of the principal aims of this thesis is the establishment of a reliability analysis infrastructure consisting of software tools and gate level aging model in an industrial framework for failure rate estimation of digital circuits at the design conception stage for circuits developed using ST 28nm FDSOI technology.
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