Novel Concepts in the PECVD Deposition of Silicon Thin Films : from Plasma Chemistry to Photovoltaic Device Applications
Ce manuscrit présente l'étude de la fabrication de couches minces de silicium basée sur des différents types de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) pour des applications dans le photovoltaïque. Tout d'abord, nous avons combiné une chimie du plasma halogéné en utilisan...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | en |
| Published: |
2017
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2017SACLX079/document |