Etude de procédés plasmas pour le retrait de résine implantée pour les filières CMOS et photonique
Les filières avancées CMOS et photonique nécessitent des procédés d’implantation utilisant des conditions beaucoup plus agressives en terme de dose et d’énergie que pour les générations de dispositifs précédentes. Cela n’est pas sans conséquences sur les étapes technologiques suivantes notamment l’é...
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| Language: | fr |
| Published: |
2017
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2017GREAT090/document |