Intégration de semi-conducteurs III-V sur substrat Silicium pour les transistors n-MOSFET à haute mobilité

La substitution du canal de silicium par un semi-conducteur III-V est une des voies envisagées pour accroitre la mobilité des électrons dans les transistors n-MOSFET et ainsi réduire la consommation des circuits. Afin de réduire les coûts et de profiter des plateformes industrielles de la microélect...

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Bibliographic Details
Main Author: Billaud, Mathilde
Other Authors: Grenoble Alpes
Language:fr
Published: 2017
Subjects:
620
Online Access:http://www.theses.fr/2017GREAT010/document

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