Modélisation du transport quantique de transistors double-grille : influence de la contrainte, du matériau et de la diffusion par les phonons

Le transistor est la brique élémentaire des circuits intégrés présents dans tous les appareils électroniques. Années après années l’industrie de la microélectronique a amélioré les performances des circuits intégrés (rapidité, consommation énergétique) en réduisant les dimensions du transistor. De n...

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Main Author: Moussavou, Manel
Other Authors: Aix-Marseille
Language:en
Published: 2017
Subjects:
Online Access:http://www.theses.fr/2017AIXM0353
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spelling ndltd-theses.fr-2017AIXM03532019-05-18T03:41:30Z Modélisation du transport quantique de transistors double-grille : influence de la contrainte, du matériau et de la diffusion par les phonons Quantum transport modeling of double­gate transistors : influence of strain, material and phonon scattering Nano-Transistors Simulation du transport quantique Diffusion par phonons Materiaux III-V Phonons optiques polaires Nano-Transistors Quantum transport simulation Phonon scattering III-V materials Polar optical phonons Le transistor est la brique élémentaire des circuits intégrés présents dans tous les appareils électroniques. Années après années l’industrie de la microélectronique a amélioré les performances des circuits intégrés (rapidité, consommation énergétique) en réduisant les dimensions du transistor. De nos jours, en plus de la réduction de la taille du transistor d’autres techniques permettent de soutenir cette croissance: ce sont les « booster » technologiques. Les contraintes mécaniques ou encore le remplacement du Silicium par d’autres matériaux tels que germanium (Ge) et les matériaux semi-conducteurs de type III-V sont des exemples de booster technologiques. Grâce à la modélisation numérique, cette thèse propose d’étudier les effets de booster technologiques sur les performances électriques de la future génération de transistors. The transistor is the elementary brick of Integrated circuits found in all electronic devices. Years after years the microelectronic industry has enhanced the performances of integrated circuits (speed and energy consumption) by downscaling the transistor. Nowadays besides the transistor’s downscaling, other techniques have been considered to maintain this growth: they are called technological boosters. Mechanical strain or new material, such as germanium (Ge) and III-V semiconductors, to replace Silicon are example of technological boosters. By the means of numerical quantum simulations and modeling, this these work propose a study of the effect of technological boosters on the electric performances of the next generation of transistors. Electronic Thesis or Dissertation Text en http://www.theses.fr/2017AIXM0353 Moussavou, Manel 2017-10-19 Aix-Marseille Bescond, Marc Cavassilas, Nicolas
collection NDLTD
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topic Nano-Transistors
Simulation du transport quantique
Diffusion par phonons
Materiaux III-V
Phonons optiques polaires
Nano-Transistors
Quantum transport simulation
Phonon scattering
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Polar optical phonons

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Diffusion par phonons
Materiaux III-V
Phonons optiques polaires
Nano-Transistors
Quantum transport simulation
Phonon scattering
III-V materials
Polar optical phonons

Moussavou, Manel
Modélisation du transport quantique de transistors double-grille : influence de la contrainte, du matériau et de la diffusion par les phonons
description Le transistor est la brique élémentaire des circuits intégrés présents dans tous les appareils électroniques. Années après années l’industrie de la microélectronique a amélioré les performances des circuits intégrés (rapidité, consommation énergétique) en réduisant les dimensions du transistor. De nos jours, en plus de la réduction de la taille du transistor d’autres techniques permettent de soutenir cette croissance: ce sont les « booster » technologiques. Les contraintes mécaniques ou encore le remplacement du Silicium par d’autres matériaux tels que germanium (Ge) et les matériaux semi-conducteurs de type III-V sont des exemples de booster technologiques. Grâce à la modélisation numérique, cette thèse propose d’étudier les effets de booster technologiques sur les performances électriques de la future génération de transistors. === The transistor is the elementary brick of Integrated circuits found in all electronic devices. Years after years the microelectronic industry has enhanced the performances of integrated circuits (speed and energy consumption) by downscaling the transistor. Nowadays besides the transistor’s downscaling, other techniques have been considered to maintain this growth: they are called technological boosters. Mechanical strain or new material, such as germanium (Ge) and III-V semiconductors, to replace Silicon are example of technological boosters. By the means of numerical quantum simulations and modeling, this these work propose a study of the effect of technological boosters on the electric performances of the next generation of transistors.
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