Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir

Dans les dispositifs électronique, il est prochainement attendu que la réduction de la taille des composant atteingne prochainement la limite quantique. De ce fait, manipuler l'information quantique apparait comme un nouveau challenge. Les Qubits supraconducteurs basé sur la physique du solide...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Delsol, Benjamin
Other Authors: Grenoble
Language:fr
Published: 2015
Subjects:
620
Online Access:http://www.theses.fr/2015GRENI015/document
id ndltd-theses.fr-2015GRENI015
record_format oai_dc
spelling ndltd-theses.fr-2015GRENI0152015-07-24T04:32:05Z Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir Growth and charcterization of superconducting epitaxial thin fimls rhenium on sapphire Rhénium Supraconductivité Epitaxie Saphir Substrat Croissance cristalline Rhenium Superconductivity Epitaxy Saphirre Substrate Chrystal growth 620 Dans les dispositifs électronique, il est prochainement attendu que la réduction de la taille des composant atteingne prochainement la limite quantique. De ce fait, manipuler l'information quantique apparait comme un nouveau challenge. Les Qubits supraconducteurs basé sur la physique du solide et les Jonctions Josephson sont des systèmes prometteurs qui profitent des avantage des technologies de la micro-électronique. Toutefois, le temps de décohérence des états quantique est encore un facteur limitant. Cette limitation est généralement attribuée à la faible qualité cristalline des matériaux utilisés (défauts cristallins, impuretés). La technique d'épitaxie par jets moléculaires a été utilisé pour la croissance de couches minces de rhénium de haute qualité cristalline sur des substrat de saphir dans un environnement Ultra Haut Vide. Le misfit existant entre les réseaux cristallins du rhénium et du saphir est suffisamment bas pour permettre une croissance épitaxiale du rhénium sur le saphir, mais également une croissance d'une barrière tunnel en oxyde d'aluminium monocristallin sur la couche de rhénium elle-même. Afin d'améliorer la qualité cristallographique de la couche de rhénium, des simulations et de nombreuses techniques de caractérisation ont été utilisées. Puis les propriétés supraconductrices des films de rhénium ont été étudié à des températures ultra basses afin de comparer ces propriétés à la qualité cristallographique de nos films. In electronic devices, it is expected that the quantum limit will soon be reached with decreasing system size. Therefore, manipulating quantum information appears as a new challenge. Solid state Qubits based on superconducting Josephson junction are promising systems which take advantage of microelectronics technology. However, decoherence time of the quantum states is still a limiting factor. This has been generally ascribed to the poor crystallographic quality of the materials used so far (crystallographic defects, impurities). The Molecular Beam Epitaxy (MBE) technique may be used to grow rhenium (Re) films of high quality on sapphire substrates in an Ultra High Vacuum (UHV) environment. So far, the misfit between Re and sapphire is low enough to permit the growth of a single crystal aluminium oxide thin film on top of the Re layer. In order to improve the crystallographic quality of the Re film, some simulations and several characterizations techniques have been used. Then, the superconducting properties of rhenium films have been studied at Ultra Low Temperature in order to compare with their crystallographic qualities. Electronic Thesis or Dissertation Text fr http://www.theses.fr/2015GRENI015/document Delsol, Benjamin 2015-02-25 Grenoble Gilles, Bruno Buisson, Olivier
collection NDLTD
language fr
sources NDLTD
topic Rhénium
Supraconductivité
Epitaxie
Saphir
Substrat
Croissance cristalline
Rhenium
Superconductivity
Epitaxy
Saphirre
Substrate
Chrystal growth
620
spellingShingle Rhénium
Supraconductivité
Epitaxie
Saphir
Substrat
Croissance cristalline
Rhenium
Superconductivity
Epitaxy
Saphirre
Substrate
Chrystal growth
620
Delsol, Benjamin
Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
description Dans les dispositifs électronique, il est prochainement attendu que la réduction de la taille des composant atteingne prochainement la limite quantique. De ce fait, manipuler l'information quantique apparait comme un nouveau challenge. Les Qubits supraconducteurs basé sur la physique du solide et les Jonctions Josephson sont des systèmes prometteurs qui profitent des avantage des technologies de la micro-électronique. Toutefois, le temps de décohérence des états quantique est encore un facteur limitant. Cette limitation est généralement attribuée à la faible qualité cristalline des matériaux utilisés (défauts cristallins, impuretés). La technique d'épitaxie par jets moléculaires a été utilisé pour la croissance de couches minces de rhénium de haute qualité cristalline sur des substrat de saphir dans un environnement Ultra Haut Vide. Le misfit existant entre les réseaux cristallins du rhénium et du saphir est suffisamment bas pour permettre une croissance épitaxiale du rhénium sur le saphir, mais également une croissance d'une barrière tunnel en oxyde d'aluminium monocristallin sur la couche de rhénium elle-même. Afin d'améliorer la qualité cristallographique de la couche de rhénium, des simulations et de nombreuses techniques de caractérisation ont été utilisées. Puis les propriétés supraconductrices des films de rhénium ont été étudié à des températures ultra basses afin de comparer ces propriétés à la qualité cristallographique de nos films. === In electronic devices, it is expected that the quantum limit will soon be reached with decreasing system size. Therefore, manipulating quantum information appears as a new challenge. Solid state Qubits based on superconducting Josephson junction are promising systems which take advantage of microelectronics technology. However, decoherence time of the quantum states is still a limiting factor. This has been generally ascribed to the poor crystallographic quality of the materials used so far (crystallographic defects, impurities). The Molecular Beam Epitaxy (MBE) technique may be used to grow rhenium (Re) films of high quality on sapphire substrates in an Ultra High Vacuum (UHV) environment. So far, the misfit between Re and sapphire is low enough to permit the growth of a single crystal aluminium oxide thin film on top of the Re layer. In order to improve the crystallographic quality of the Re film, some simulations and several characterizations techniques have been used. Then, the superconducting properties of rhenium films have been studied at Ultra Low Temperature in order to compare with their crystallographic qualities.
author2 Grenoble
author_facet Grenoble
Delsol, Benjamin
author Delsol, Benjamin
author_sort Delsol, Benjamin
title Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
title_short Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
title_full Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
title_fullStr Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
title_full_unstemmed Elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
title_sort elaboration et caractérisation de couches minces supraconductrices épitaxiées de rhénium sur saphir
publishDate 2015
url http://www.theses.fr/2015GRENI015/document
work_keys_str_mv AT delsolbenjamin elaborationetcaracterisationdecouchesmincessupraconductricesepitaxieesderheniumsursaphir
AT delsolbenjamin growthandcharcterizationofsuperconductingepitaxialthinfimlsrheniumonsapphire
_version_ 1716808430462697472