Caractérisation et modélisation des effets d'empilement des couches minces sous la résine photosensible pendant le procédé de photolithographie optique
La photolithographie optique assure en partie à la microélectronique la miniaturisation des circuits électroniques. Afin de faire face à la limite de résolution de l'équipement de photolithographie, les industriels ont mis au point des techniques d'amélioration de la résolution dont certai...
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| Language: | fr |
| Published: |
2014
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2014STET4025/document |