Croissance et propriétés des couches minces de silicium hydrogéné déposées au voisinage de la zone de transition amorphe nanocristalline par PECVD à partir d’un plasma de silane dilué dans un gaz d’argon.
L'objectif de cette thèse est de contribuer à la compréhension des propriétés optoélectroniques des couches minces de silicium hydrogénée, une étude détaillée a été effectuée. Les échantillons ont été déposés par 13,56 MHz PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) à partir du silane dil...
| Main Author: | |
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| Language: | fr |
| Published: |
2013
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2013MON20058 |