La lithographie par double impression pour les noeuds technologiques avancés
La lithographie par double impression est une solution potentielle proposée pour l'impression des circuits des nœuds technologiques avancés (22nm et au-delà) en attendant que la lithographie Extrême Ultraviolet soit prête pour la production en masse. La technique de double impression est basée...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | fr |
| Published: |
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2011GRENT047/document |
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