Analyse des modèles résines pour la correction des effets de proximité en lithographie optique
Les progrès réalisés dans la microélectronique répondent à la problématique de la réduction des coûts de production et celle de la recherche de nouveaux marchés. Ces progrès sont possibles notamment grâce à ceux effectués en lithographie optique par projection, le procédé lithographique principaleme...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | fr |
| Published: |
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2011GRENT007/document |
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