[en] THERMODYNAMIC MODELLING OF CDTE THIN FILM DEPOSITION BY ELEMENTAL CO-EVAPORATION, UNDER ISOTHERMAL TRANSPORT
[pt] O objetivo do presente trabalho é a deposição de filmes de telureto de cádmio a partir de duas fontes de materiais, Cd e Te, com base no uso de diagramas de potenciais termodinâmicos para avaliar as condições de deposição. Em especial, o método proposto permite avaliar a influência de contam...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | pt |
| Published: |
MAXWELL
2005
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/Busca_etds.php?strSecao=resultado&nrSeq=7072@1 https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/Busca_etds.php?strSecao=resultado&nrSeq=7072@2 http://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.7072 |
| Summary: | [pt] O objetivo do presente trabalho é a deposição de filmes de
telureto de cádmio a partir
de duas fontes de materiais, Cd e Te, com base no uso de
diagramas de potenciais
termodinâmicos para avaliar as condições de deposição. Em
especial, o método proposto
permite avaliar a influência de contaminantes gasosos, tais
como, oxigênio, sobre as fases
condensadas. O método também pode ser aplicado para a
deposição de outros compostos
que sejam mais estáveis que os elementos que os compõem. O
processamento utilizado na
deposição utiliza uma técnica alternativa onde as
temperaturas de fonte e de substrato são
as mesmas. === [en] The objective of the present work is deposition of Cadmiun
Telurides films from two
sources of materials, Cd and Te, on the basis of the use of
diagrams of thermodynamic
potentials to evaluate the deposition conditions. In
special, the considered method allows to
evaluate the influence of gaseous contaminantes, such as,
oxygen, on the condensed phases.
The method can be applied for the deposition of other
compounds that are more stable than
the constituent elements. The equipment used in the
deposition uses an alternative
technique where the temperatures of source and substrate
are the same ones. |
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