Crystalline properties of gallium oxide thin films epitaxially grown by mist chemical vapor deposition

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京都大学 === 0048 === 新制・課程博士 === 博士(工学) === 甲第19721号 === 工博第4176号 === 新制||工||1644(附属図書館) === 32757 === 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 === (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 准教授 須田 淳 === 学位規則第4条第1項該当 === Doctor of Philosophy (Engineering) === Kyoto University === DFAM...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Lee, Sam-Dong
Other Authors: 藤田, 静雄
Format: Doctoral Thesis
Language:English
Published: 京都大学 (Kyoto University) 2016
Subjects:
Gallium oxide
Epitaxial growth
Chemical vapor deposition
Semiconductor
Crystal growth
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/215547
Description
Summary:京都大学 === 0048 === 新制・課程博士 === 博士(工学) === 甲第19721号 === 工博第4176号 === 新制||工||1644(附属図書館) === 32757 === 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 === (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 准教授 須田 淳 === 学位規則第4条第1項該当 === Doctor of Philosophy (Engineering) === Kyoto University === DFAM

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