高密度MOSデバイスにおける,衝突電離に起因した特性劣化に関する研究

Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・論文博士 === 工学博士 === 乙第5734号 === 論工博第1858号 === 新制||工||646(附属図書館) === UT51-60-U248 === (主査)教授 川端 昭, 教授 松波 弘之, 教授 佐々木 昭夫 === 学位規則第5条第2項該当

Bibliographic Details
Main Author: 松本, 平八
Other Authors: 川端, 昭
Format: Others
Language:Japanese
Published: 京都大学 2012
Subjects:
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/162196
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spelling ndltd-kyoto-u.ac.jp-oai-repository.kulib.kyoto-u.ac.jp-2433-1621962017-09-09T03:48:32Z 高密度MOSデバイスにおける,衝突電離に起因した特性劣化に関する研究 松本, 平八 川端, 昭 松波, 弘之 佐々木, 昭夫 Matsumoto, Heihachi マツモト, ヘイハチ 500 Kyoto University (京都大学) 0048 新制・論文博士 工学博士 乙第5734号 論工博第1858号 新制||工||646(附属図書館) UT51-60-U248 (主査)教授 川端 昭, 教授 松波 弘之, 教授 佐々木 昭夫 学位規則第5条第2項該当 2012-11-26T23:57:56Z 2012-11-26T23:57:56Z 1985-11-25 1985-11-25 DFAM Thesis or Dissertation http://hdl.handle.net/2433/162196 000000187048 10.14989/doctor.r5734 jpn application/pdf 京都大学 Kyoto University
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松本, 平八
高密度MOSデバイスにおける,衝突電離に起因した特性劣化に関する研究
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