A study of wear-out and breakdown phenomena in thin silicon dioxide films and the evaluation techniques

Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・論文博士 === 博士(工学) === 乙第11362号 === 論工博第3764号 === 新制||工||1300(附属図書館) === UT51-2004-C110 === (主査)教授 藤本 孝, 教授 藤田 靜雄, 教授 立花 明知 === 学位規則第4条第2項該当

Bibliographic Details
Main Author: Eriguchi, Koji
Other Authors: 藤本, 孝
Format: Others
Language:English
Published: 京都大学 (Kyoto University) 2011
Subjects:
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/148307