| Summary: | Enkelfotonkällor är ett aktivt forskningsområde på grund av deras potentiella användning inom kvantteknologi. På grund av deras mikroskopiska storlek är de dock svåra att producera på ett tillförlitligt sätt. Det finns flera olika processer som behöver förbättras för att fullkomna tillverkningen av enkelfotonkällor. En sådan process som måste förbättras för att tillverka en specifik typ av enkelfotonkälla är kemisk etsning, avlägsnandet av material från ett substrat med hjälp av en kemisk lösning. Syftet med detta projekt har varit förbättra detta produktionssteg. Detta uppnåddes genom att konstruera en förbättrad uppställning som ökade etsningens stabilitet och gjorde det möjligt att övervaka processen. Denna uppställning bestod av en uppsättning linser och bländare som fungerade som ett mikroskop med ett långt objektavstånd och en liten dator med en kamera som är ansluten och kan övervaka processen. Den nya uppställningen förbättrade resultaten av etsningen och förmågan att övervaka etsningen gav en djupare insikt om hela processen. Detta ledde till en ytterliggare förbättring i form av att minska omrörningen av den kemiska lösningen vilket ledde till en jämnare etsningsyta. === Single photon sources are an active field of research due to their great potential in photonic quantum technologies. One of their biggest advantages compared to other light sources is their ability to generate single photons on demand. However, their emission profile, emitting photons in all directions, leads to severe losses. Therefore, complex photonic structures such as cavities, antennas, waveguide have been used to increase the brightness of single photon sources. Due to their nanoscale size however single photon sources are difficult to produce reliably and there are various processes that need to be improved to perfect any manufacturing of such nano-engineered single photon sources. One such process for a specific type of single photon source is the process of wet chemical etching, the removal of specific materials from a substrate with the help of chemical solutions. The purpose of this project has been too improve this production step. This was achieved by constructing a new setup that increased the stability of the etching process and made it possible to better monitor the process. This new setup consisted of a system of lenses and apertures that act as a long working distance microscope combined with a small computer with a camera module attached to capture the images of the ongoing process. This new setup improved the results of the etching and the ability to monitor its progress provided deeper insight of the etching process. This led to an improvement of the etching process itself by lowering the agitation of the chemical solution which led to a more even etching surface.
|
|---|
