A Study on The Diffraction Effect of Proximity Printing Process Using Circular Apertuer Array Mask
碩士 === 國立中興大學 === 機械工程學系 === 92 === 近接式微影為一種將光罩影像圖案轉移至基材的製程，應用於半導體製程、微機電及微元件之製作，但若使用不慎，非曝光區亦會產生曝光效果，造成影像變形。本研究由光學繞射理論著手，探討近接式微影製程因光罩與光阻之間隙變化造成的光學繞射效應而產生的圖案變形效果。文中以Huygens-Fresnel繞射理論為基礎，推導証明光強度隨著光罩與光阻之間隙增加而減少，而且即使間隙很小時，在非曝光區也會產生光強度，造成影像的模糊；隨著間隙的增加，非曝光區與曝光區的光強度越接近，造成曝光影像的變形，此現象在使用影像陣列光罩進行近接微影曝光時，由於繞射...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | zh-TW |
| Published: |
2004
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| Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/08873809808966390510 |