磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響

碩士 === 國立中央大學 === 物理研究所 === 82 ===

Bibliographic Details
Main Authors: Huang, He Ling, 黃鶴齡
Other Authors: Li, Wen Xian
Format: Others
Language:zh-TW
Published: 1994
Online Access:http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/76777097211290627393
id ndltd-TW-082NCU02198001
record_format oai_dc
spelling ndltd-TW-082NCU021980012016-07-18T04:09:43Z http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/76777097211290627393 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響 Huang, He Ling 黃鶴齡 碩士 國立中央大學 物理研究所 82 Li, Wen Xian Chen, Yang Yuan 李文獻 陳洋元 1994 學位論文 ; thesis 0 zh-TW
collection NDLTD
language zh-TW
format Others
sources NDLTD
description 碩士 === 國立中央大學 === 物理研究所 === 82 ===
author2 Li, Wen Xian
author_facet Li, Wen Xian
Huang, He Ling
黃鶴齡
author Huang, He Ling
黃鶴齡
spellingShingle Huang, He Ling
黃鶴齡
磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
author_sort Huang, He Ling
title 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
title_short 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
title_full 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
title_fullStr 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
title_full_unstemmed 磁場與電場對RuO2-Al2O3薄膜電性之影響
title_sort 磁場與電場對ruo2-al2o3薄膜電性之影響
publishDate 1994
url http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/76777097211290627393
work_keys_str_mv AT huangheling cíchǎngyǔdiànchǎngduìruo2al2o3báomódiànxìngzhīyǐngxiǎng
AT huánghèlíng cíchǎngyǔdiànchǎngduìruo2al2o3báomódiànxìngzhīyǐngxiǎng
_version_ 1718352251480702976