以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬

碩士 === 中正理工學院 === 電子工程研究所 === 78 ===

Bibliographic Details
Main Authors: WANG,HONG-ZONG, 王弘宗
Other Authors: LIN,JIAN-YANG
Format: Others
Language:zh-TW
Published: 1991
Online Access:http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/51687667959718579596
id ndltd-TW-078CCIT2428024
record_format oai_dc
spelling ndltd-TW-078CCIT24280242015-10-13T15:12:05Z http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/51687667959718579596 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬 WANG,HONG-ZONG 王弘宗 碩士 中正理工學院 電子工程研究所 78 LIN,JIAN-YANG 林堅揚 1991 學位論文 ; thesis 70 zh-TW
collection NDLTD
language zh-TW
format Others
sources NDLTD
description 碩士 === 中正理工學院 === 電子工程研究所 === 78 ===
author2 LIN,JIAN-YANG
author_facet LIN,JIAN-YANG
WANG,HONG-ZONG
王弘宗
author WANG,HONG-ZONG
王弘宗
spellingShingle WANG,HONG-ZONG
王弘宗
以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
author_sort WANG,HONG-ZONG
title 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
title_short 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
title_full 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
title_fullStr 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
title_full_unstemmed 以LPCVD生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
title_sort 以lpcvd生長鎢金屬薄膜厚度之理論模擬
publishDate 1991
url http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/51687667959718579596
work_keys_str_mv AT wanghongzong yǐlpcvdshēngzhǎngwūjīnshǔbáomóhòudùzhīlǐlùnmónǐ
AT wánghóngzōng yǐlpcvdshēngzhǎngwūjīnshǔbáomóhòudùzhīlǐlùnmónǐ
_version_ 1717763012162486272