薄層分析專用之三氧化二鋁的研究

• Main Authors: CHEN, SHI-ZE, 陳史澤
• Other Authors: HONG, YAO-XUN
• Format: Others
• Language: zh-TW
• Published: 1988
• Online Access: http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/52150076098967802821

碩士 === 中正理工學院 === 應用化學研究所 === 76 === AlO 應用在TLC 上相當廣泛，而AlO 為多晶型（Polymorphous）的化合物， 所以常因合成（燒）溫度不同，及時間長短不一而有不同的晶體結構的AlO 必 然具有不同的物理特性，尤其是氧化鋁表面上具有高度的極性，不同的晶體結構非列 ，影響材料本身的吸附性甚大。本論文的目的在尋找一個合成TLC 專用AlO 的最 適當條件，並進一步了解AlO 晶體結構與解析力（Rf）的關係。而研究方法是以 Hydrargillite （Al（OH））及銨明礬(Al（SO）（NH）SO．24HO) 的加熱分解來製造各種晶態的氧化鋁。 利用DTA 及TGA 來說明其加熱反應變化，用X －光粉未繞射來鑑定氧化鋁的晶體結構 ；對於Hydrargillite 的熱轉換利用IR光譜來探討其反應過程；而銨明礬則利用元素 分析儀來分析氧化鋁中硫的含量。最後並研究各種不同晶態氧化鋁在TLC 中的分離效 果，其中以Hydrargillite 在500-800 ℃燒生成γ－AlO及銨明礬在 850-900 ℃燒生成γ－AlO，最適合於TLC 的材料；控制AlO顆粒在１０μm 以上， 黏接劑（Binder）含量在百分之９左右為TLC 最佳條件。以χ－AlO分離酚、 Sudan 紅G 及乳黃混合染料，其Rf值為0.39、0.61、0.81，以γ－AlO 分離其 Ｒf值為0.34、0.56﹑0.76，至於商用鋁薄片Merck 5551及Merck 5731，其Rf值分 別為0.47、0.58、0.73及0.23、0.39、0.55。