Synthesis and characterization of wide bandgap semiconductors doped with terbium for electroluminescent devices
In this work, stoichiometric, structural and light emission properties of amorphous wide bandgap semiconductor materials doped with terbium are presented. The amorphous nature of the thin films was confirmed by X-ray diffraction under grazing incidence. Fourier transform infrared spectroscopy spe...
Main Author: | |
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Other Authors: | |
Format: | Dissertation |
Language: | Spanish |
Published: |
Pontificia Universidad Católica del Perú
2016
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Subjects: | |
Online Access: | http://hdl.handle.net/20.500.12404/6999 |
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ndltd-PUCP-oai-tesis.pucp.edu.pe-20.500.12404-69992020-11-15T17:25:40Z Synthesis and characterization of wide bandgap semiconductors doped with terbium for electroluminescent devices Montañez Huamán, Liz Margarita Weingärtner, Roland Hoppe, Harald Luminiscencia--Dispositivos Luz--Estequiometría Espectrometría Fotoluminiscencia In this work, stoichiometric, structural and light emission properties of amorphous wide bandgap semiconductor materials doped with terbium are presented. The amorphous nature of the thin films was confirmed by X-ray diffraction under grazing incidence. Fourier transform infrared spectroscopy spectra exhibit the formation of oxygen bonded elements and X-ray photoelectron spectroscopy reveals the formation of aluminum oxynitride and silicon oxycarbide as host matrices. The thin films were annealed at temperatures ranging from 300 °C to 1000 °C using a rapid thermal processing furnace. The highest light emission intensity for the case of aluminum oxynitride was obtained for terbium concentrations higher than 1 at% and for the annealing temperature at around 400 °C. Additionally, using the characterized films as active layer first electroluminescence devices were designed and investigated. En el presente trabajo de investigación se ha estudiado propiedades estequiometrias, estructurales y de emisión de luz de semiconductor de amplio ancho de banda dopados con terbio. La difracción de rayos-X en ángulo rasante confirma el estado amorfo de las películas. Los espectros de absorción infrarroja muestran la formación de óxidos en las películas y la espectroscopia de foto-electrones de rayos-X revela la formación de oxinitruro de aluminio y oxicarburo de silicio. Las películas han sido calentadas a temperaturas en el rango de 300 °C a 1000 °C en un horno de rápido procesamiento térmico. De acuerdo con el análisis de las medidas de fotoluminiscencia, la intensidad más alta de emisión de luz del terbio es para películas que tengan concentraciones de terbio mayores al 1at% y a una temperatura de tratamiento térmico de alrededor de 400 °C. Adicionalmente, las películas analizadas han sido usado como capas activas para el diseño de dispositivos electroluminiscentes Tesis 2016-06-21T03:04:44Z 2016-06-21T03:04:44Z 2016 2016-06-20 info:eu-repo/semantics/masterThesis http://hdl.handle.net/20.500.12404/6999 spa Atribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Perú info:eu-repo/semantics/openAccess application/pdf Pontificia Universidad Católica del Perú Pontificia Universidad Católica del Perú Repositorio de Tesis - PUCP |
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Luminiscencia--Dispositivos Luz--Estequiometría Espectrometría Fotoluminiscencia |
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Luminiscencia--Dispositivos Luz--Estequiometría Espectrometría Fotoluminiscencia Montañez Huamán, Liz Margarita Synthesis and characterization of wide bandgap semiconductors doped with terbium for electroluminescent devices |
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In this work, stoichiometric, structural and light emission properties of amorphous wide bandgap
semiconductor materials doped with terbium are presented. The amorphous nature of the thin
films was confirmed by X-ray diffraction under grazing incidence. Fourier transform infrared
spectroscopy spectra exhibit the formation of oxygen bonded elements and X-ray photoelectron
spectroscopy reveals the formation of aluminum oxynitride and silicon oxycarbide as host
matrices. The thin films were annealed at temperatures ranging from 300 °C to 1000 °C using a
rapid thermal processing furnace. The highest light emission intensity for the case of aluminum
oxynitride was obtained for terbium concentrations higher than 1 at% and for the annealing
temperature at around 400 °C. Additionally, using the characterized films as active layer first
electroluminescence devices were designed and investigated. === En el presente trabajo de investigación se ha estudiado propiedades estequiometrias, estructurales
y de emisión de luz de semiconductor de amplio ancho de banda dopados con terbio. La
difracción de rayos-X en ángulo rasante confirma el estado amorfo de las películas. Los
espectros de absorción infrarroja muestran la formación de óxidos en las películas y la
espectroscopia de foto-electrones de rayos-X revela la formación de oxinitruro de aluminio y
oxicarburo de silicio. Las películas han sido calentadas a temperaturas en el rango de 300 °C a
1000 °C en un horno de rápido procesamiento térmico. De acuerdo con el análisis de las medidas
de fotoluminiscencia, la intensidad más alta de emisión de luz del terbio es para películas que
tengan concentraciones de terbio mayores al 1at% y a una temperatura de tratamiento térmico de
alrededor de 400 °C. Adicionalmente, las películas analizadas han sido usado como capas activas
para el diseño de dispositivos electroluminiscentes === Tesis |
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