Deposição de filmes de ZnO sobre substrato de Si via implantação iônica por imersão em plasma e deposição
Este trabalho teve como objetivo a deposição de filmes finos de óxido de zinco (ZnO) sobre substrato de silício (Si), utilizando para isto a técnica de Implantação Iônica por Imersão em Plasma e Deposição (3IP$\&$D). O estudo visou correlacionar variáveis do processo com as características do fi...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
2010
|
| Online Access: | http://urlib.net/sid.inpe.br/mtc-m19@80/2010/04.28.13.10 |