Cristalização induzida por níquel em filmes de silício amorfo
Devido às suas potenciais aplicações tecnológicas (células solares, transistores de filme fino TFT, etc.), o estudo do silício amorfo (a-Si) tem despertado o interesse da comunidade científica desde o final da década de 70. Mais recentemente, este interesse foi renovado com o desenvolvimento da...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade de São Paulo
2007
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/76/76132/tde-11042007-132511/ |