Caracterização elétrica de contatos rasos de siliceto de níquel sobre junções N+P.

Caracterização elétrica de contatos rasos de siliceto de níquel sobre junções N+P.

Este trabalho apresenta a fabricação e a caracterização elétrica de contatos Al/Ti/Ni(Pt)Si sobre junções rasas N+P com aproximadamente 0,2 ìm de profundidade, sendo que o monosiliceto de níquel foi formado a partir da estrutura Ni(30nm)/Pt(1,5nm)/Si. O comportamento elétrico dos diodos obtidos...

Full description

Bibliographic Details
Main Author:	Ricardo Pestana
Other Authors:	Sebastiao Gomes dos Santos Filho
Language:	Portuguese
Published:	Universidade de São Paulo 2006
Subjects:	Diodo Resistividade de contato Siliceto de níquel Contact resistivity Diode Nickel silicide
Online Access:	http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-143302/

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