Fabricação de novas heteroestruturas a partir de estruturas SOI obtidas pela técnica \'smart-cut\'.

Fabricação de novas heteroestruturas a partir de estruturas SOI obtidas pela técnica \'smart-cut\'.

Esta pesquisa engloba o estudo e desenvolvimento de novas heteroestruturas semicondutoras, tomando como base as estruturas SOI (Silicon-On-Insulator - silício sobre isolante) obtidas pela técnica Smart Cut, estudadas nestes últimos anos no Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos da Es...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Neisy Amparo Escobar Forhan
Other Authors: Inés Pereyra
Language:Portuguese
Published: Universidade de São Paulo 2006
Subjects:
Heteroestruturas semicondutoras
Materiais
Microeletrônica
"Smart-cut" technology
Ion implantation
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
SiCOI (Silicon Carbide-On-Insulator) semiconductor heterostructures
Silicon carbide (SiC)
SOI (Silicon-On-Insulator) structures
Thermal annealed
Online Access:http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02042008-112321/

Internet

http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02042008-112321/

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