Desenvolvimento de c?lulas solares em sil?cio tipo n com emissor formado com boro
Made available in DSpace on 2015-04-14T13:58:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1 421791.pdf: 1283062 bytes, checksum: e3aff10753365da17e18a35994e82590 (MD5) Previous issue date: 2010-01-27 === O Sol ? fonte de energia renov?vel e o seu uso para produzir energia el?trica ? uma das alternativas promisso...
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Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul
2015
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ndltd-IBICT-oai-tede2.pucrs.br-tede-31512019-01-22T02:31:24Z Desenvolvimento de c?lulas solares em sil?cio tipo n com emissor formado com boro Bruschi, Diogo Lino Moehlecke, Adriano ENGENHARIA DE MATERIAIS C?LULAS SOLARES SIL?CIO SISTEMAS FOTOVOLTAICOS CNPQ::ENGENHARIAS Made available in DSpace on 2015-04-14T13:58:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1 421791.pdf: 1283062 bytes, checksum: e3aff10753365da17e18a35994e82590 (MD5) Previous issue date: 2010-01-27 O Sol ? fonte de energia renov?vel e o seu uso para produzir energia el?trica ? uma das alternativas promissoras para enfrentar os desafios energ?ticos e ambientais do novo mil?nio. O sil?cio ? o segundo material mais abundante da Terra. Este material ? largamente usado na ind?stria de c?lulas solares e microeletr?nica, apresenta baixos ?ndices de contamina??es e permite a fabrica??o de dispositivos de alta durabilidade. O Si tipo n vem despertando o interesse mundial devido a sua maior toler?ncia a impurezas, tais como ferro e oxig?nio, por apresentar degrada??o reduzida e maior tempo de vida dos portadores minorit?rios. O objetivo deste trabalho est? centrado no desenvolvimento de um processo de fabrica??o industrial de c?lulas solares p+nn+, pseudoquadradas de 80 mm x 80 mm, sobre sil?cio crescido por fus?o zonal flutuante (Si-FZ) tipo n, com metaliza??o por serigrafia. A regi?o p+ foi produzida a partir de boro depositado por spin-on e difundido a alta temperatura em forno convencional. A dopagem da regi?o p+ foi otimizada considerando as caracter?sticas el?tricas das c?lulas solares. A temperatura de difus?o foi variada de 900 ?C a 1020 ?C e os tempos de 10 min a 40 min. A passiva??o de superf?cie foi implementada utilizando SiO2 o que demonstrou n?o ser eficaz para reduzir a recombina??o de superf?cie. Os melhores dispositivos foram fabricados com difus?o de boro a 1000 ?C por 30 min, sem passiva??o de superf?cie, atingindo-se efici?ncias de 14,6 %. 2015-04-14T13:58:35Z 2010-03-17 2010-01-27 info:eu-repo/semantics/publishedVersion info:eu-repo/semantics/masterThesis BRUSCHI, Diogo Lino. Desenvolvimento de c?lulas solares em sil?cio tipo n com emissor formado com boro. 2010. 88 f. Disserta??o (Mestrado em Engenharia e Tecnologia de Materiais) - Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, 2010. http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/3151 por -7432719344215120122 500 600 -655770572761439785 info:eu-repo/semantics/openAccess application/pdf Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais PUCRS BR Faculdade de Engenharia reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da PUC_RS instname:Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul instacron:PUC_RS |
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Previous issue date: 2010-01-27 === O Sol ? fonte de energia renov?vel e o seu uso para produzir energia el?trica ? uma das alternativas promissoras para enfrentar os desafios energ?ticos e ambientais do novo mil?nio. O sil?cio ? o segundo material mais abundante da Terra. Este material ? largamente usado na ind?stria de c?lulas solares e microeletr?nica, apresenta baixos ?ndices de contamina??es e permite a fabrica??o de dispositivos de alta durabilidade. O Si tipo n vem despertando o interesse mundial devido a sua maior toler?ncia a impurezas, tais como ferro e oxig?nio, por apresentar degrada??o reduzida e maior tempo de vida dos portadores minorit?rios. O objetivo deste trabalho est? centrado no desenvolvimento de um processo de fabrica??o industrial de c?lulas solares p+nn+, pseudoquadradas de 80 mm x 80 mm, sobre sil?cio crescido por fus?o zonal flutuante (Si-FZ) tipo n, com metaliza??o por serigrafia. A regi?o p+ foi produzida a partir de boro depositado por spin-on e difundido a alta temperatura em forno convencional. A dopagem da regi?o p+ foi otimizada considerando as caracter?sticas el?tricas das c?lulas solares. A temperatura de difus?o foi variada de 900 ?C a 1020 ?C e os tempos de 10 min a 40 min. A passiva??o de superf?cie foi implementada utilizando SiO2 o que demonstrou n?o ser eficaz para reduzir a recombina??o de superf?cie. Os melhores dispositivos foram fabricados com difus?o de boro a 1000 ?C por 30 min, sem passiva??o de superf?cie, atingindo-se efici?ncias de 14,6 %. |
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