Propriedades óticas de filmes de nitreto de titânio com adição de nióbio depositados por triodo-magnetron sputtering

Made available in DSpace on 2016-12-08T15:56:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Luiz Antonio Alves.pdf: 4887074 bytes, checksum: 2921556dad24ae9311fe651e5a0ccdcf (MD5) Previous issue date: 2014-07-14 === Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico === Titanium nitride (TiN) films wi...

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Bibliographic Details
Main Author: Alves, Luiz Antonio
Other Authors: Fontana, Luís Cesar
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade do Estado de Santa Catarina 2016
Subjects:
Online Access:http://tede.udesc.br/handle/handle/619
id ndltd-IBICT-oai-tede.udesc.br #179.97.105.11-handle-619
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spelling ndltd-IBICT-oai-tede.udesc.br #179.97.105.11-handle-6192018-05-23T21:20:58Z Propriedades óticas de filmes de nitreto de titânio com adição de nióbio depositados por triodo-magnetron sputtering Optical properties of TiN with niobium deposited by triode-magnetron sputtering Alves, Luiz Antonio Fontana, Luís Cesar Nitreto de titânio Nióbio Sputtering Refletividade Funções dielétricas Parâmetros de cor CIELab Modelo de Drude-Lorentz Titanium nitride Niobium Sputtering Reflectivity Dielectrics functions CIELab color parameters Drude-Lorentz model CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA Made available in DSpace on 2016-12-08T15:56:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Luiz Antonio Alves.pdf: 4887074 bytes, checksum: 2921556dad24ae9311fe651e5a0ccdcf (MD5) Previous issue date: 2014-07-14 Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico Titanium nitride (TiN) films with niobium (Nb) addition (TiN[Nb], 0,01 < Nb/Ti < 0,15) were obtained by sputter deposition in a triode magnetron sputtering system from a mosaic target of titanium with niobium inserts at the erosion zone. The effects of Nb/Ti in surface morphology were analyzed by atomic force and confocal microscopy measurements. The reflectivities of the films with niobium incorporation are in agreement with the Drude-Lorentz model. The constants obtained by the fitting show an increase in plasma frequency and relaxation time with increased Nb/Ti ratio, indicating an increase in the number of charge carriers. The color parameters according CIELab system show an increase in L*, a* and b* coordinates. The visual analysis indicates an increased red tone when compared with pure TiN film in agreement with the increased absolute values of a* coordinates. Filmes de nitreto de titânio com adição de nióbio ((TiN[Nb], 0,01 < Nb/Ti < 0,15) foram depositados pelo processo de pulverização catódica utilizando um sistema Triodo Magnetron Sputtering. A pulverização catódica de Titânio e Nióbio foi feita a partir de um alvo de titânio com insertos de nióbio dispostos na região de erosão. Foram analisados os efeitos da razão Nb/Ti na morfologia superficial do filme através de microscopia de força atômica e confocal. As medidas de refletividade dos filmes de TiN[Nb] obedecem perfeitamente o modelo de Drude-Lorentz. As constantes obtidas pelo modelo de Drude-Lorentz mostram um aumento nos valores da frequência de plasma e tempo de relaxação com o aumento na razão Nb/Ti, indicando que a presença de nióbio aumenta o número de portadores de carga. Os parâmetros de cor segundo o sistema CIELab mostram um aumento nas coordenadas L*, a* e b*. A análise visual das amostras mostra uma tonalidade avermelhada, quando comparadas com o filme contendo somente TiN, em concordância com o aumento absoluto nas coordenadas a*. 2016-12-08T15:56:18Z 2015-07-14 2014-07-14 info:eu-repo/semantics/publishedVersion info:eu-repo/semantics/doctoralThesis http://tede.udesc.br/handle/handle/619 por info:eu-repo/semantics/openAccess application/pdf Universidade do Estado de Santa Catarina Doutorado em Ciência e Engenharia de Materiais UDESC BR Ciência e Engenharia de Materiais reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UDESC instname:Universidade do Estado de Santa Catarina instacron:UDESC
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Alves, Luiz Antonio
Propriedades óticas de filmes de nitreto de titânio com adição de nióbio depositados por triodo-magnetron sputtering
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