Avaliação da técnica de evaporação resistiva para a deposição de filmes finos de GaAs e compostos de GaAs com óxidos e cloretos de Er ou Yb

Avaliação da técnica de evaporação resistiva para a deposição de filmes finos de GaAs e compostos de GaAs com óxidos e cloretos de Er ou Yb

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Full description

Bibliographic Details
Main Author: Corrêa, Patrícia [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2014
Subjects:
Filmes finos
Semicondutores
Evaporação resistiva
Arseneto de gálio
Resistive evaporation
Thin films
Gallium arsenide
Semiconductor
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/88498

Internet

http://hdl.handle.net/11449/88498

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