| Summary: | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior === CoFeB thin films were produced using the technique of magnetronsputtering. Six
samples were produced magnetic thin films with two different thicknesses, using
different settings for shading masks. For each film were made two measurements of
magnetization, a parallel to the easy axis of magnetization, and the other
perpendicular to the axis. The films produced with shading masks non-magnetic
show a deteriorated magnetic configuration compared to those produced with
magnetic material with a cut. Different thicknesses of the films provide different
values in the coercive field of the sample. The thicker films have an increase in the
coercive field. With these results there is a possibility of making tunnel junctions
measures aimed tunnel magneto-resistance with CoFeB films as an electrode. === Filmes finos de CoFeB foram produzidos utilizando a técnica de magnetron
sputtering. Foram produzidas seis amostras de filmes finos magnéticos com duas
espessuras diferentes, utilizando diferentes configurações para máscaras de
sombreamento. Para cada filme foram feitas duas medidas de magnetização, uma
paralela ao eixo fácil de magnetização, e outra perpendicular ao eixo. Os filmes
produzidos com máscaras de sombreamento não magnéticas apresentam uma
configuração magnética deteriorada em comparação aos produzidos com máscaras
de material magnético com um corte. Diferentes espessuras dos filmes
proporcionam diferentes valores do campo coercivo da amostra, para os filmes mais
espessos temos um aumento no campo coercivo. Com esses resultados há uma
possibilidade de confecção de junções túnel visando medidas de magneto
resistência túnel com filmes de CoFeB como eletrodo.
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