Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores

Filmes finos de óxido de estanho: efeitos da implantação iônica e de ambientes oxidantes e redutores

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Filmes finos de óxido de estanho depositados por "sputtering" reativo foram caracterizados com bases em análises feitas por Espalhamento Nuclear Ressonante, Espectroscopia por Retroespalhamento Rutheford, Espectroscopia Mössbauer de Elétrons de Conversão e Difração de Raios-X e pelas medid...

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Bibliographic Details
Main Author: Stedile, Fernanda Chiarello
Other Authors: Baumvol, Israel Jacob Rabin
Format: Others
Language:Portuguese
Published: 2007
Subjects:
Filmes finos
Sputtering
Implantacao de ions
Online Access:http://hdl.handle.net/10183/1370

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