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LEOPOLDO VIANA BATISTA NETO - DISSERTAÇÃO PPG-CEMat 2014..pdf: 2575700 bytes, checksum: a10f0685285492d2302637ed070d9631 (MD5) === Made available in DSpace on 2018-04-12T21:33:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1
LEOPOLDO VIANA BATISTA NETO - DISSERTAÇÃO PPG-CEMat 2014..pdf: 2575700 bytes, checksum: a10f0685285492d2302637ed070d9631 (MD5)
Previous issue date: 2014-08-28 === Filmes finos de Nitreto de titânio (TiN) e Nitreto de titânio-zircônio (TiZrN) foram
depositados sobre substratos de aço inoxidável 316 usando o método de Sputtering RF
para deposição dos filmes. O planejamento de experimentos (DOE) tem sido
reconhecido como um método poderoso para otimizar um processo complexo na
indústria. Os efeitos do presente estudo foram verificar a viabilidade e confiabilidade da
aplicação do método DOE em processos de Sputtering RF, otimizar os parâmetros de
processamento para o processo de deposição, identificando os parâmetros sensíveis
que afetam a espessura da camada depositada (E.C.D) e a resistência à corrosão
(Ecorr.). Para o método de Sputtering RF, dois parâmetros, a taxa e tempo de deposição
foram escolhidos para serem os parâmetros do processo. Depois da deposição, a
estrutura de camada depositada foi caracterizada por Difração de Raios X (DRX) e por
Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Após o ensaio de polarização, a corrosão
foi realizada a fim de investigar a relação entre o início da corrosão e a espessura da
camada depositada. A análise de variância (ANOVA) foi realizada para avaliar os
parâmetros sensíveis e prever as condições ideais. Com base na análise estatística, os
parâmetros mais sensíveis no processo de Sputtering RF foram tanto a taxa como o
tempo de deposição do filme fino. As melhores condições de deposição foram a taxa de
deposição máxima e tempo máximo. === Titanium nitride (TiN) and titanium-zirconium nitride (TiZrN) thin films were
deposited on ASTM F 138 stainless steel substrates using de Sputtering RF methods.
Design of experiment (DOE) has long been recognized as a powerful method to
optimize a complex process in industry. The purposes of present study were to verify the
feasibility and reliability of the application of DOE method on de Sputtering RF
processes and optimize the processing parameters for the deposition process, in which
the sensitive parameters that affected the film properties were also identified. For de
Sputtering RF method, two parameters, deposition rate and time were chosen to be the
operating parameters. After deposition, the thin film structure was characterized by X-ray
diffraction (XRD), and high-resolution scanning electron microscopy (SEM). After the
polarization test, the corrosion analysis was carried out in order to investigate the
relationship between the corrosion initiation and the thickness of the deposited layer.
The analysis of variance (ANOVA) was conducted to assess the sensitive parameters
and predict the optimum conditions. Based on the statistical analysis, the most sensitive
parameters in de Sputtering RF process were both the deposition rate and time. The
optimum deposition conditions in each system were maximum deposition rate and time.
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