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ANDRÉ LOPES SOARES - DISSERTAÇÃO PPG-CEMat 2014..pdf: 6257060 bytes, checksum: 6c6fb12b0cbaaafb3788e358c240a5d5 (MD5) === Made available in DSpace on 2018-04-05T18:10:49Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 2014-08-28 === Filmes finos de Nitreto de zircônio (ZrN) e nitreto da mistura titânio-zircônio
(TiZrN) foram depositados sobre substratos de aço inoxidável 316L usando o método
de RF Sputtering para deposição dos filmes. O planejamento de experimentos (DOE)
tem sido reconhecido como um método poderoso para otimizar um processo complexo
na indústria. Os efeitos do presente estudo foram verificar a viabilidade e confiabilidade
da aplicação do método DOE em processos de RF Sputtering, otimizar os parâmetros
de processamento para o processo de deposição, identificando os parâmetros
sensíveis que afetam a espessura da camada depositada (E.C.D) e a resistência à
corrosão (Ecorr.) Para o método de RF Sputtering, dois parâmetros, a taxa e tempo de
deposição foram escolhidos para serem os parâmetros do processo. Depois da
deposição, a estrutura de camada depositada foi caracterizada por Difração de Raios X
(DRX) e por Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Após o ensaio de polarização,
a corrosão foi realizada a fim de investigar a relação entre o início da corrosão e a
espessura da camada depositada. A análise de variância (ANOVA) foi realizada para
avaliar os parâmetros sensíveis e prever as condições ideais. Com base na análise
estatística, os parâmetros mais sensíveis no processo de RF Sputtering foram tanto a
taxa como também o tempo de deposição do filme fino. As melhores condições de
deposição foram a taxa de deposição máxima e tempo máximo. === Zirconium nitride (ZrN) and titanium-zirconium nitride (TiZrN) thin films were
deposited on 316L stainless steel substrates using de RF Sputtering methods. Design
of experiment (DOE) has long been recognized as a powerful method to optimize a
complex process in industry. The purposes of present study were to verify the feasibility
and reliability of the application of DOE method on de RF Sputtering processes and
optimize the processing parameters for the deposition process, in which the sensitive
parameters that affected the film properties were also identified. For de RF Sputtering
method, two parameters, deposition rate and time were chosen to be the operating
parameters. After deposition, the thin film structure was characterized by X-ray
diffraction (XRD), and high-resolution scanning electron microscopy (SEM). After the
polarization test, the corrosion analysis was carried out in order to investigate the
relationship between the corrosion initiation and the thickness of the deposited layer.
The analysis of variance (ANOVA) was conducted to assess the sensitive parameters
and predict the optimum conditions. Based on the statistical analysis, the most sensitive
parameters in de RF Sputtering process were both the deposition rate and time. The
optimum deposition conditions in each system were maximum deposition rate and time.
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