Crescimento, estrutura e magnetismo de filmes ultrafinos de Ni depositados sobre Pd(100)

• Main Author: Diego Pinheiro Aun
• Other Authors: Waldemar Augusto de Almeida Macedo
• Format: Others
• Language: Portuguese
• Published: CNEN - Centro de Desenvolvimento da Tecnologia Nuclear, Belo Horizonte 2012
• Subjects: Filmes finos; Propriedades magnéticas; Thin films; Magnetic properties; FISICA DA MATERIA CONDENSADA
• Online Access: http://www.bdtd.cdtn.br//tde_busca/arquivo.php?codArquivo=262

Nenhuma === Neste trabalho, o modo de crescimento, a estrutura e o comportamento magnético de filmes ultrafinos de Ni crescidos epitaxialmente sobre o Pd(100), foram investigados utilizando-se as técnicas experimentais in-situ de RHEED, LEED, AES, MBE e MOKE, e VSM ex-situ. O objetivo foi estudar a influência da tensão gerada na interface pelo descasamento do parâmetro de rede dos materiais (10,4%), a influência da temperatura e a presença de uma camada de recobrimento. Descobrimos que os filmes crescem camada a camada até uma espessura de ~4 ML e, em seguida, passa a ter seu crescimento na forma de ilhas. Os filmes apresentam uma estrutura tetragonal TFC até uma espessura de 11 ML quando sofre uma transição indicada por um forte aumento no valor da coercividade e pela proximidade do valor de sua distância interplanar com o do Ni em volume. A estrutura do filme volta à sua configuração CFC de volume acima de ~15 ML. As curvas de histerese magnéticas, obtidas à partir de 4,6 ML, apresentaram um formato que indica que o eixo fácil se encontra no plano para toda a faixa de espessura (4,6 a 18,3 ML) e temperatura (150 a 350 K) investigadas. O valor do campo coercivo aumenta com a presença de uma camada de recobrimento e com a diminuição da temperatura. Não houve indicação de nenhuma transição de reorientação de spin ou anisotropia magnética perpendicular. === In this work, the growth mode, the structure and the magnetic behavior of ultrathin Ni films epitaxially grown over Pd(100) were investigated using in-situ experimental techniques ass RHEED, LEED, AES, MBE and MOKE, and ex-situ VSM. The objective was to study the influence of the stress induced by the lattice parameter mismatch of the materials (10,4%), the influence of temperature and the presence of a capping layer. We found a layer by layer growth mode up to a thickness of ~4 ML, followed by the growth in islands. The film presented a TFC tetragonal structure up to 11 ML, then suffers a transition indicated by a strong elevation on the coercivity and by the proximity of the interplanar distance ass compared to bulk Ni. The film structure returns to it`s original CFC bulk configuration above ~15 ML. The magnetic hysteresis curves, obtained from 4,6 ML, presented a squared shape indicating that the easy axis stood in the film plane for the thickness (4,6 to 18,3 ML) and temperature (150 to 350 K) ranges investigated. The coercive field value grows with the presence of a capping layer and as the temperature goes down. There was no indication of a spin reorientation transition or perpendicular magnetic anisotropy.