Caracterização de plasmas fluorados em reatores RIE e HCRIE para corrosão de silício
Este trabalho explora a caracterização e aplicação de plasmas gerados em reatores do tipo Reactive Ion Etching (RIE) e Hollow Cathode Reactive Ion Etching (HCRIE), no processo de corrosão de silício. Para melhor controle do processo, o sistema de injeção de gases nos reator foi automatizado, gerando...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Instituto Tecnológico de Aeronáutica
2015
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=3308 |