Nasschemische Siliciumbehandlung in Flusssäure-haltigen Lösungen mit den Oxidationsmitteln Wasserstoffperoxid und Ozon

Nasschemische Siliciumbehandlung in Flusssäure-haltigen Lösungen mit den Oxidationsmitteln Wasserstoffperoxid und Ozon

Die Siliciumauflösung in Flusssäure-Wasserstoffperoxid- und Flusssäure-Ozon-Lösung ist aufgrund der, aus der Oxidation des Siliciums, formal resultierenden Reaktionsprodukte Wasser und Sauerstoff interessant. Der Auflösungsprozess, speziell die Oxidation des Siliciums / Elektronenlochinjektion ins S...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Gondek, Christoph
Other Authors: TU Bergakademie Freiberg, Chemie und Physik
Format: Doctoral Thesis
Language:deu
Published: Technische Universitaet Bergakademie Freiberg Universitaetsbibliothek "Georgius Agricola" 2017
Subjects:
Halbleiterätzverfahren
Reaktivitätsstudien
Siliciumauflösung
Ätzprozesse
Oberflächeneigenschaften
kinetische Studien
Silicon etching
hydrofluoric acid
hydrogen peroxide
ozone
reactivitiy studies
surface properties
ddc:540
Silicium
Ätzen
Wasserstoffperoxid
Ozon
Reaktionskinetik
Halbleiteroberfläche
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-226256
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-226256
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/22625/Gondek_Dissertation_2017_Ver%C3%B6ffentlichung_1b.pdf

Internet

http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-226256
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-226256
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/22625/Gondek_Dissertation_2017_Ver%C3%B6ffentlichung_1b.pdf

Similar Items