Trockene Desagglomeration von Nanopartikelflocken in einer Gegenstrahlmühle mit kombinierter Onlineüberwachung

Mit Untersuchungen auf dem Gebiet der trockenen Desagglomeration konnte nachgewiesen werden, dass mit Strahlmühlen unter bestimmten technischen Voraussetzungen Materialagglomerate aus der Produktklasse Nanopartikelfocken auf Partikelgrößen kleiner 1 µm bei maximal möglicher Beladung stabil desagglom...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Füchsel, Sascha
Other Authors: TU Bergakademie Freiberg, Maschinenbau, Verfahrens- und Energietechnik
Format: Doctoral Thesis
Language:deu
Published: Technische Universitaet Bergakademie Freiberg Universitaetsbibliothek "Georgius Agricola" 2013
Subjects:
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-112090
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Füchsel, Sascha
Trockene Desagglomeration von Nanopartikelflocken in einer Gegenstrahlmühle mit kombinierter Onlineüberwachung
description Mit Untersuchungen auf dem Gebiet der trockenen Desagglomeration konnte nachgewiesen werden, dass mit Strahlmühlen unter bestimmten technischen Voraussetzungen Materialagglomerate aus der Produktklasse Nanopartikelfocken auf Partikelgrößen kleiner 1 µm bei maximal möglicher Beladung stabil desagglomerierbar sind. Dabei zeigt sich vor allem, dass mit sinkender spezifischer Oberfläche des Ausgangsmaterials eine höhere Dispersität bei vergleichbarem Input an Desagglomerationsenergie möglich ist. Voraussetzung hierfür ist die speziell auf die Desagglomerationsaufgabe angepasste Versuchsanlage. Mit der zur Bestimmung der Dispersität entwickelten Online-Messstrecke sind Partikelgrößen von 10 nm bis hin zu ca. 42 µm in einem Körnungsband erfassbar. Mit den gegebenen Möglichkeiten der Prozessanalyse zu wesentlichen Einflussparametern wird eine Überwachung der Prozessstabilität ermöglicht. Die Variation der Transportstrecke bei den verschiedenen Produktaerosolen mit maximaler Dispersität zeigt, dass technisch sinnvolle und kurze Wege bis 1 m die Einleitung stabiler Aerosole hoher Dispersität bis in den Bereich der Materialaggregate bei 100 nm bis 200 nm in einen Folgeprozess (z.B. Coating) ermöglichen.
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