Etude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : loi de similitude
L'objectif de ce travail porte sur la généralisation de la modélisation de la gravure du silicium dans les plasmas de fluor ou de chlore à celle de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V de structure cristalline de type diamant ou zinc-blende dans les plasmas d'halo...
| Main Author: | |
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| Language: | fra |
| Published: |
Université de Grenoble
2013
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01062182 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/01/06/21/82/PDF/37303_PHAN.pdf |