Développement de surfaces fonctionnelles par polymérisation plasma à la pression atmosphérique : applications aux propriétés superhydrophobes, barrières aux gaz et aux UV

• Main Author: Petersen, Julien
• Language: fra
• Published: Université de Strasbourg 2012
• Subjects: [PHYS:COND:CM_GEN] Physics/Condensed Matter/Other; [PHYS:COND:CM_GEN] Physique/Matière Condensée/Autre; [CHIM:OTHE] Chemical Sciences/Other; [CHIM:OTHE] Chimie/Autre; Plasma atmosphérique; Superhydrophobe; Barrière aux gaz; Polymérisation plasma; Décharge à barrière diélectrique; Nanoréacteur; TiO2; Perfluorodecyl acrylate
• Online Access: http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00992185; http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/99/21/85/PDF/Petersen_Julien_2012_ED182.pdf

Le manuscrit porte sur l'élaboration de couches minces ayant des propriétés barrières aux liquides, aux gaz et aux ultra-violets. Pour réaliser nos différents systèmes, la technologie plasma à décharge à barrière diélectrique à la pression atmosphérique (DBD) a été utilisée. Dans la première partie, des films polymère plasma à base de 1H, 1H, 2H, 2H, Perfluorodecyl acrylate ont été développé. En fonction des paramètres plasma une surface dîtes superhydrophobe en une étape a été obtenue grâce à l'obtention d'un film composé de nanoparticules fluorés. La seconde partie des travaux a consisté à développer des films barrières aux gaz à partir de l'hexamethyldisiloxane. Ainsi, des films minces SiOx et multicouches SiOxHyCz/SiOx ont pu être obtenue afin d'améliorer les performances barrières de substrat PET et PEN. Enfin, l'obtention de film barrière aux UV a consisté à une croissance in-situ de nanoparticules de dioxyde de titane (TiO2) à partir du film polymère plasma. La matrice polymère constitué d'une structure siloxane et aminée plasma joue le rôle de nano-réacteur pour la croissance de cristaux de TiO2.