Irradiation par des ions de grande énergie de semiconducteurs III-N (AlN, GaN, InN) : création de défauts ponctuels et étendus.
Les matériaux semiconducteurs III N (AlN, GaN, InN) présentent des propriétés intéressantes pour la micro et l'opto-électronique. Ils peuvent être soumis à différents types d'irradiation dans une large gamme d'énergie de projectile. Dans l'AlN, initialement considéré insensible a...
Main Author: | Sall, Mamour |
---|---|
Language: | fra |
Published: |
Université de Caen
2013
|
Subjects: | |
Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00936879 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/93/68/79/PDF/Manuscrit_these_Mamour_SALL.pdf |
Similar Items
-
Croissance et caractérisation de nanofils de GaN et d'hétérostructures filaires de GaN/AIN
by: Hestroffer, Karine
Published: (2012) -
Electron Microscopy and III-Nitride Nanostructured
by: Sarigiannidou, Eirini
Published: (2004) -
Propriétés structurales et optiques de nanostructures III-N semiconductrices à grand gap : nanofils d'AlxGa1-xN synthétisés par épitaxie par jets moléculaires et nanostructures de nitrure de bore.
by: Pierret, A.
Published: (2013) -
Vers de nouveaux matériaux hybrides à base de graphène épitaxié: contrôle de la formation de défauts et leur rôle dans l'intercalation
by: Kimouche, Amina
Published: (2013) -
Theoretical and experimental contribution to the study of exchange-spring magnets
by: Tayade, Renuka
Published: (2014)