Défis liés à la réduction de la rugosité des motifs de résine photosensible 193 nm

Défis liés à la réduction de la rugosité des motifs de résine photosensible 193 nm

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A chaque nouvelle étape franchie dans la réduction des dimensions des dispositifs en microélectronique, de nouvelles problématiques sont soulevées. Parmi elles, la fluctuation de la longueur de la grille des transistors, aussi appelée rugosité de bord de ligne (LWR, pour "Line Width Roughness&q...

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Bibliographic Details
Main Author:	Azar-nouche, Laurent
Language:	fra
Published:	Université de Grenoble 2012
Subjects:	[SPI:OTHER] Engineering Sciences/Other [SPI:OTHER] Sciences de l'ingénieur/Autre Rugosité de bord de ligne Résine 193 nm CD-AFM CD-SEM Gravure plasma Métrologie
Online Access:	http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00767820 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/76/78/20/PDF/24261_AZARNOUCHE_2012_archivage.pdf

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