Synthèse, caractérisation et durabilité de systèmes photostructurables destinés à l'holographie
Le but de cette étude est d'obtenir de nouveaux matériaux polymères photostucturables pour l'enregistrement holographique. La première partie de ce travail a été consacrée à la synthèse radicalaire de copolymères carbazoliques à base d'unités carbazolylméthacylates espacées par des gr...
| Main Author: | |
|---|---|
| Language: | FRE |
| Published: |
Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand II
2008
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00730504 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/73/05/04/PDF/2008CLF21847.pdf |
| Summary: | Le but de cette étude est d'obtenir de nouveaux matériaux polymères photostucturables pour l'enregistrement holographique. La première partie de ce travail a été consacrée à la synthèse radicalaire de copolymères carbazoliques à base d'unités carbazolylméthacylates espacées par des groupements octylméthacrylates, puis à leur purification et enfin à leur caractérisation. Une analyse approfondie de leur comportement photochimique a été menée à des longueurs d'onde d'irradiation supérieures à 300 nm représentatives du vieillissement naturel. Une étude des mécanismes photochimiques mis en jeu sous irradiation laser à 405 nm (longueur d'onde utilisée pour l'enregistrement holographique) a ensuite été réalisée avec des copolymères dopés avec de l'iodoforme. Enfin, la faisabilité des enregistrements holographiques a pu être démontrée sous irradiation laser à 480 et 532 nm en dopant les copolymères avec de la trinitrofluorénone |
|---|