Analyse des modèles résines pour la correction des effets de proximité en lithographie optique
Les progrès réalisés dans la microélectronique répondent à la problématique de la réduction des coûts de production et celle de la recherche de nouveaux marchés. Ces progrès sont possibles notamment grâce à ceux effectués en lithographie optique par projection, le procédé lithographique principaleme...
| Main Author: | |
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| Language: | fra |
| Published: |
Université de Grenoble
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00721951 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/72/19/51/PDF/TOP_Mame-Kouna_2011_Archivage.pdf |
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