Etude de la projection plasma sous très faible pression - torches et procédé de dépôt
Au cours de la dernière décennie, la technologie de projection à la torche à plasmasous très faible pression (VLPPS) (inférieure à 10 mbar) a attiré l'attention denombreux chercheurs car ce procédé permet d'envisager la possibilité de réaliser desdépôts de structure voisine de celle des dé...
| Main Author: | |
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| Language: | FRE |
| Published: |
Université de Technologie de Belfort-Montbeliard
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00703247 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/70/32/47/PDF/ThA_se_-_ZHU_-_Lin_UTBM.pdf |