Etude de la stabilité et de la précision des modèles utilisés dans la correction des effets de proximité optique en photolithographie
À l'heure actuelle, les modèles photochimiques utilisés dans la correction des effets de proximitéoptique (OPC) en photolithographie sont devenus complexes et moins physiques afin de permettre decapturer rapidement le maximum d'effets optiques et chimiques. La question de la stabilité de t...
| Main Author: | |
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| Language: | fra |
| Published: |
Université de Grenoble
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00682907 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/68/29/07/PDF/Saied_mazen_2011_archivage1.pdf |