Analyse de procédés de traitement plasma des résines photosensibles à 193 nm pour le développement de technologies CMOS sub-65 nm

Analyse de procédés de traitement plasma des résines photosensibles à 193 nm pour le développement de technologies CMOS sub-65 nm

Ce travail de thèse vise l'étude des interactions entre les plasmas utilisés en microélectronique et les résines à amplification chimique. Les procédés de fabrication employés en microélectronique nécessitent l'utilisation de matériaux polymères. Ces matériaux permettent dans un premier te...

Full description

Bibliographic Details
Main Author:	Bazin, Arnaud
Language:	FRE
Published:	2009
Subjects:	[SPI:NANO] Engineering Sciences/Micro and nanotechnologies/Microelectronics microélectronique gravure plasma résines à amplification chimique résistance à la gravure traitements plasma rugosité
Online Access:	http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00668121 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/66/81/21/PDF/ThA_se-Bazin.pdf

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