Etude de microdécharges comme source de rayonnement ultraviolet intense

• Main Author: Martin, Virginie
• Language: FRE
• Published: Université Paris Sud - Paris XI 2011
• Subjects: [PHYS:COND:CM_GEN] Physics/Condensed Matter/Other; Exciplexes; Rayonnement UV-C; Réseaux de microdécharges; Décharge à Barrière Diélectrique; décharges impulsionnelles
• Online Access: http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00656909; http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/65/69/09/PDF/VD2_Martin_Virginie_08122011.pdf

La décontamination bactériologique des surfaces par lumière pulsée est un enjeu de société qui requiert le développement de nouveaux outils. Une technique ayant prouvée son efficacité est l'utilisation de lumière pulsée dans le domaine de longueur d'onde 200-280 nm (bande d'absorption de l'ADN). Dans ce travail, nous avons étudié deux sources, Décharge à Barrière Diélectrique (DBD) et réseaux de microdécharges permettant de générer un rayonnement à 222 nm correspondant à l'émission de l'exciplexe KrCl*. Nos études ont permis de démontrer qu'il était possible de produire des décharges dans de nombreuses microcavités fonctionnant en parallèle sans aucun ballast résistif à condition d'employer une excitation impulsionnelle nanoseconde. Des études d'imagerie et de spectroscopie résolues temporellement ont démontré que l'ensemble des microdécharges s'initiaient en moins de 5 ns, ce qui permet d'envisager la réalisation de matrice de microdécharges rayonnant des puissances crêtes élevées. Dans le cas des DBD, les études ont couplé modèle et expérience, ce qui nous a permis de déterminer les étapes clés de la cinétique réactionnelle et de prédire les meilleures conditions de production d'un rayonnement intense à 222 nm. Par ailleurs, grâce aux microdécharges, nous avons pu réaliser une source de rayonnement VUV permettant de sonder la densité de chlore atomique dans des réacteurs de gravure plasma par spectroscopie d'absorption résonnante.